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膜材料的低溫等離子體表面改性理論 對(duì)于膜材料表面處理,等離子體處理具有處理效果均勻的優(yōu)點(diǎn),而且作用的深度僅在膜表面幾納米到幾百納米的范圍,不影響膜材料的內(nèi)部結(jié)構(gòu),可以充分發(fā)揮原膜材料的優(yōu)點(diǎn)。因此,低溫等離子體技術(shù)在膜材料改性方面應(yīng)用廣泛。

Jan. 10, 2025

石墨氧等離子體處理 ?通過(guò)氧等離子處理, 石墨表面粗糙度增加，石墨表面接枝了C-OH、-COOH、C-O-C等官能團(tuán),在等離子體作用下含氧官能團(tuán)發(fā)生分 解,使得部分C-C鍵提前斷開(kāi),暴露出C自由基,提高了石墨表面的活性。

Jan. 03, 2025

樹(shù)脂基復(fù)合材料低溫等離子體處理提高粘接性 樹(shù)脂基復(fù)合材料經(jīng)過(guò)低溫等離子體處理后,表面化學(xué)成分發(fā)生變化,表現(xiàn)在表面氧元素含量大大增加,根據(jù)化學(xué)鍵理論,含氧官能團(tuán)增加有利于粘接時(shí)膠黏劑與材料界面處形成化學(xué)鍵,有利于粘接強(qiáng)度的提高。

Jan. 03, 2025

干法等離子體刻蝕 干法等離子體刻蝕是以氣體為主要媒介的刻蝕技術(shù),包括化學(xué)刻蝕,物理刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕。干法刻蝕主要是利用氣體(例如,氨、氯氣、氫氣或氬氣)電離產(chǎn)生的等離子體在極短時(shí)間內(nèi)腐蝕材料表面，去除光刻后暴露的表面材料。

Dec. 26, 2024

高分子材料等離子體法表面改性 等離子體是高度電離的氣體,它是由電子、離子、原子及分子組成混合氣體，等離子體處理能夠改善高分子材料的表面性能,包括潤(rùn)濕性、染色性、印刷性、粘合性、防靜電性、表面固化等。

Dec. 26, 2024

玻璃纖維等離子體改性處理提高結(jié)合性能 等離子體處理技術(shù)就是利用等離子體使玻璃纖維表面產(chǎn)生輕度的刻蝕,改變其表面的某些官能團(tuán),從而增加玻璃纖維與基體之間的有效接觸面,降低表面接觸角,同時(shí)引入大量極性基團(tuán)，從而提升環(huán)氧-玻璃纖維的力學(xué)性能。

Dec. 24, 2024